韩媒:泛林集团选择性刻蚀设备将成三星下一代存储器开发关键2022-02-12 12:13:29 来源:C114通信网 阅读量:12035
导读:泛林集团10日宣布推出一系列新的选择性刻蚀产品,支持GAA晶体管结构和3D堆叠技术韩媒指出,预计该设备将对三星电子的下一代存储半导体和系统半导体的开发起到关键作...
泛林集团10日宣布推出一系列新的选择性刻蚀产品,支持GAA晶体管结构和3D堆叠技术韩媒指出,预计该设备将对三星电子的下一代存储半导体和系统半导体的开发起到关键作用 据BusinessKorea报道,对于泛林集团来说,在推出新产品时直接提到客户是很不寻常的半导体业界有关人士表示:半导体企业在开发新技术时,通常会同时开发生产设备三星电子将GAA视为赶超台积电的灵丹妙药,从设备开发到测试阶段,一直与泛林集团合作 声明:以上内容为本网站转自其它媒体,相关信息仅为传递更多企业信息之目的,不代表本网观点,亦不代表本网站赞同其观点或证实其内容的真实性。投资有风险,需谨慎。 上一篇:
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